Gas semiconduttori header

Gas semiconduttori

Contattaci generico

Contattaci

+39.035.328.111

 

siad@siad.eu

Gas semiconduttori

Nell’industria dei semiconduttori, i gas SIAD sono usati nell’intero processo produttivo, a partire dalla crescita di ogni singolo cristallo di silicio e proseguendo attraverso ogni singola fase di fabbricazione dei wafer: ossidazione, deposizione chimica in fase vapore, spruzzamento, rivestimento, etching (pulizia delle superfici mediante attacco chimico), diffusione termica e ionizzazione.

Applicazioni dei gas nella produzione dei semiconduttori
La garanzia di fornitura di gas ad elevata purezza risulta essere un fattore critico per la produzione dei semiconduttori a livelli tecnologicamente avanzati. Basti pensare che la produzione di un circuito integrato richiede più di trenta gas di processo per la pulizia, la deposizione, l’ossidazione, il drogaggio e le inertizzazioni: si tratta di fatto della gamma di gas usati più vasta tra tutte le industrie in cui i gas trovano impiego. Oltretutto, le tracce di impurità, in parti per millione, in parti per miliardo ed addirittura in parti per trilione, devono obbligatoriamente essere misurate ed eliminate.
I gas semiconduttori vengono classificati nelle seguenti categorie:

  • gas apportatori di silicio (per crescite epitassiali)
  • gas dopanti
  • gas etching (per pulire, mediante attacco chimico, le superfici)
  • gas atmosferici
  • gas reagenti.

Di questi, l’azoto e l’ossigeno sono prodotti on-site tramite il processo di frazionamento dell’aria o approvvigionati in forma liquida, l’argon è fornito in forma liquida e l’idrogeno in forma gassosa.
L’azoto è largamente impiegato nella maggior parte dei processi produttivi, per la formazione di atmosfere inerti o per il lavaggio delle linee di distribuzione dei gas di processo al termine dell'operazione.
L’ossigeno è usato per l’ossidazione del silicio, che è una delle fasi più critiche nella produzione dei semiconduttori.
L’argon è utilizzato per la formazione di atmosfere inerti nei processi di sputtering, in cui l’azoto è troppo reattivo e potrebbe portare alla formazione di nitruri.
L’idrogeno trova impiego nella produzione di atmosfere riducenti per la ricottura di film metallici.
SIAD, nell’offrire la propria linea di gas semiconduttori, garantisce affidabilità e sicurezza, ovunque si trovi il sito produttivo del cliente.

Menù di Navigazione

Gas apportatori di silicio
I gas apportatori di silicio costituiscono una fonte di atomi per la deposizione di silicio policristallino, di silicio epitassiale, di biossido di silicio e di nitruro di silicio.
Gas corrosivi
I gas corrosivi quali l’acido bromidrico, l’acido cloridrico ed il cloro sono usati per pulire, mediante attacco chimico, le superfici.
Gas atmosferici
I gas atmosferici sono usati per spurgare sistemi ed apparecchiature di processo quando la produzione dei semiconduttori può essere compromessa a seguito di una contaminazione di ritorno delle linee di spurgo.
Gas di processo
I gas di processo comprendono l’ammoniaca, il protossido d’azoto, l’acido cloridrico e l’esafluoruro di tungsteno.
Gas droganti
I gas droganti costituiscono una fonte di impurità controllate che vengono introdotte per modificare localmente le caratteristiche elettriche del materiale semiconduttore.
Planarizzazione chimico-meccanica
La planarizzazione chimico-meccanica dei semiconduttori (CMP) è un processo di finitura dei wafer di silicio
Etching gas
Nell’industria dei semiconduttori sono molti gli etching gas, che vengono utilizzati per pulire, mediante attacco chimico, le superfici; in particolare, i fluorocarburi ed altri composti fluorurati.