
Perché i gas per la produzione di wafer e fibre ottiche
Nella fabbricazione di wafer e fibre ottiche basta una traccia di impurità per compromettere la resa e mandare a scarto il prodotto: per questo serve gas di purezza estrema. Le diverse fasi (deposizione, litografia, etching, doping, annealing e pulizia delle camere) impiegano gas speciali, miscele certificate e gas di processo specifici. SIAD fornisce un'offerta completa di prodotti ad alta purezza, con purificazione interna, controllo della qualità e imballi dedicati all'industria elettronica.
Gas puri
Gas puri e di processo di grado elettronico
Alta complessità
Miscele ad alta complessità e precisione
Dedicati
Imballi e materiali dedicati all'industria dei semiconduttori
Prodotti e servizi per la produzione di wafer e fibre ottiche
SIAD propone una gamma completa di gas puri e gas di processo, gas speciali e miscele per la fabbricazione di wafer e fibre ottiche, con purezze dedicate alle diverse fasi del processo, supportata da sistemi di analisi e imballi e materiali dedicati per l'industria elettronica.
L'ossigeno è disponibile in diverse purezze intermedie, fino a O₂ ultra-puro 99,9999% in bulk e in forma compressa, grazie a un impianto di purificazione dedicato. Azoto e argon arrivano dalle unità di frazionamento dell'aria con processo criogenico. L'elio è distribuito liquido in bulk, liquido in dewar e compresso in bombole, pacchi bombole e tube trailer, con un impegno costante sulla diversificazione delle fonti per garantire la continuità della fornitura.
Dal monossido di carbonio all'ammoniaca, entrambi purificati internamente in grado elettronico, SIAD copre i gas speciali più critici per i semiconduttori. Grazie alle partnership con i principali player del mondo chimico, fornisce inoltre gas rari, isotopi, gas fluorurati, acidi e altri gas di processo.
Grazie all'esperienza del laboratorio, SIAD fornisce diverse tipologie di miscele impiegate nei processi di fabbricazione dei semiconduttori: miscele a base di idruri o gas fluorurati, miscele O₂/He o He/N₂, miscele per laser e miscele con gas rari.
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