Półprzewodnik header

Półprzewodnik

Skontaktuj generico

Skontaktuj się z nami

+48 32 77 11 650

 

siad@siad.pl

Półprzewodnik

W przemyśle półprzewodników, gazy SIAD są stosowane w całym procesie produkcji - od wzrostu każdego pojedynczego kryształu krzemu kontynuując przez każdy etap wytwarzania wafla: utleniania, osadzania chemicznego z fazy gazowej, rozpylania, powlekania, trawienia, dyfuzji termicznej i jonizacji.

Zastosowanie gazów w produkcji półprzewodników
Gwarancja dostawy gazów o wysokiej czystości jest kluczowym czynnikiem przy zaawansowanej produkcji półprzewodników. Produkcja układu scalonego wymaga ponad 30 różnych gazów procesowych do trawienia, dyfuzji, utleniania, domieszania i zobojętniania. Zakres gazów używanych jest szerszy niż w każdej innej branży. Śladowe zanieczyszczenia w częściach na poziomach na milion, bilion i nawet na trylion a muszą zmierzone i wyeliminowane.

Gazy półprzewodnikowe są klasyfikowane jako:

  • prekursory krzemu
  • domieszki
  • środki trawiące
  • gazy atmosferyczne
  • gazy reakcyjne

Spośród nich, azot i tlen są wytwarzane na miejscu za pomocą procesu rozdzielania powietrza lub dostarczane jako ciecz kriogeniczna, argon, dostarczany jako ciecz kriogeniczna i wodór, dostarczany jako gaz sprężony.
Azot jest szeroko stosowany w wielu procesach, w celu zapewnienia obojętnej atmosfery lub w celu oczyszczenia gazów reaktywnych po zakończeniu procesu.
Tlen jest używany dla utleniania krzemu, co jest jednym z najważniejszych procesów we wszystkich produkcjach półprzewodników.
Argon jest używany do tworzenia obojętnej atmosfery w procesie rozpylania jonowego metali, podczas czego azot jest zbyt reaktywny i może prowadzić do tworzenia azotków.
Wodór, dostarczany luzem jako ciecz kriogeniczna lub produkowany na miejscu, jest używany w celu zapewnienia środowiska redukującego do wyżarzania folii metalowych.
Pełna linia gazów procesowych półprzewodnikowych firmy SIAD zapewnia niezawodność i bezpieczeństwo, bez względu na to, gdzie produkcja wafla jest ulokowana.